第1068章(第3页)

 “麻蛋~空间石碑这是跟自己故意作对吗?” 

 高晓光看着空间石碑给的有关商业卫星的技术资料一阵想骂娘。 

 “特么……这些资料都是2020年后的航天技术,这些技术先进是先进,可以目前九州国的制造工艺根本造不出来。” 

 没错! 

 空间石碑内关于商业通讯卫星的核心设备,最低需要21纳米级制造工艺,而千禧年90纳米工艺才成为行业标准。 

 高晓光眉头紧蹙。 

 从覃岭基地划分出去的机床设备研发中心,目前还正在攻克500纳米制造工艺。 

 什么? 

 同期dram芯片的线宽缩减至800纳米,ibm等企业开始探索电子束光刻等纳米级加工技术。 

 高晓珊在70年代都研制出了286芯片,制造工艺还是问题? 

 要知道! 

 800纳米光刻机,主要用于半导体制造,通过紫外光(如193nm arf光源)将电路图案曝光至硅片上的光刻胶层,实现纳米级精密图形转移。 

 套刻精度直接影响芯片的多层结构对齐能力,例如国产最新duv光刻机套刻精度可达8纳米,而国际先进设备可达5纳米。