第535章 难言的表情(第2页)

 李教授正介绍到国产设备克服困难取得的成就时，一个带着明显疏离感的声音从队伍后方响起，打断了讲解：

 “10^-5托？”赵锐抱着手臂，斜倚在一个工作台边，“李教授，根据《physics today》上最新的综述文章，贝尔实验室和西德马普所的同类设备，稳定工作真空度都在10^-9到10^-10托量级。

 10^-5托的本底压强，对于研究表面物理效应，比如吸附、脱附动力学，或者某些需要超净表面的半导体工艺，干扰噪声是否过于显着？我们与国际先进水平的差距，似乎比想象中更大。”

 他刻意提到了国外期刊的名字和具体数据，在那个信息闭塞的年代，显得格外高深。

 不少同学脸上露出尴尬的表情。

 李教授推了推鼻梁上厚厚的眼镜，脸上的自豪感淡去：

 “赵锐同学的信息很灵通，说得也是事实。”

 他语气沉稳，没有回避，“国际前沿确实在追求更高的真空度。

 但是，我们这台设备，是在一穷二白、被封锁的条件下，靠我们自己的技术人员和工人师傅，用算盘计算参数，用最简陋的机床加工部件，一点一滴拼凑调试出来的！

 它的意义，首先在于打破了封锁，解决了有无的问题。

 10^-5托，对于我们现在正在进行的许多应用研究，比如为七机部配套的某些耐高温光学薄膜、为机械部研制的耐磨涂层，是完全够用并且取得了实际成果的。

 饭要一口一口吃，路要一步一步走，我们不能因为暂时落后，就否定自己艰苦奋斗的成果。”

 赵锐似乎没料到教授会如此坦诚，抿了抿嘴，没再继续反驳，但脸上那点不以为然并未完全消散。

 陆青阳的目光看向了一台国产的sC-16型光线示波器，以及旁边展示柜里几片镀了不同厚度铝膜的玻璃样品。

 他若有所思，然后开口问道：

 “李教授，您刚才提到耐磨涂层应用，我注意到这台示波器记录的是膜厚监控信号。

 我想请教一下，这种对薄膜沉积过程的实时监控技术，除了服务于光学和半导体基础研究，它的精确控制思想，是否有可能‘下沉’应用到更广泛的工业领域？