第570章 光刻机区别(第3页)

 光刻机之所以会被行业内外人士称为“光刻机”，其实是一个很生动具体的称呼，它就是利用光的特殊原理，雕刻芯片的高精尖机器。 

 光，在这台机器上，就是手术刀，就是工兵最需要的利器。 

 李贤审目光凝重道：“据说，荷兰阿斯麦公司将要卖给台积电的euv光刻机所用的光源是极紫外光源，这个光源制造出来的euv光刻机，不仅

可以轻松制造出台积电制程标准的10纳米芯片，或许，如果台积电的工程师足够激进的话，恐怕几年内，就可能将其推进到10纳米以下的高性能芯片。” 

 杨刚省也在一旁说道：“这件事情，我还算比较清楚，因为光刻胶在这两者的应用也不一样。 

 荷兰阿斯麦公司联合全球一众科学家、工程师，搞出来的这台euv光刻机，据说其使用的极深紫外线，其光源波长为13.5纳米。 

 而现在夏芯国际还在使用的duv光刻机，则是使用的深紫外线，其光源波长为193纳米。 

 euv光刻机的光源是通过激光激发等离子体来发射euv光子，而duv光刻机的光源为准分子激光。因为光源产生方式的不同，所以我们也要开发不同类型的专用光刻胶。 

 并且除此之外，我们的晶圆工艺也需要提升，否则芯片良品率会差许多。” 

 有这两位开口，其他人也是群策群力，提供着自己的情报。 

 “以前我听西工大的教授说起过，这两种光刻机的光路系统设计都非常不同。 

 euv光刻机利用的是光的反射原理，并且内部必须是真空操作，不能够有空气和杂物。而duv光刻机主要利用光的折射原理，透镜和晶圆之间可以采用不同的介质来改变光刻性能，我们大夏联邦已经有光刻机研发机构，快要突破duv光刻机的光源设备、透镜工艺了。” 

 “你说的是上沪市的那个上沪微电子？”